音圈电机助力半导体行业突破技术瓶颈
首先,超精密定位平台的机械机构和加工精度直接决定了音圈电机的定位精度,并且随着光刻机指标的不断提高,对音圈电机超精密定位系统的各项参数指标更加严格,例如:电机表面温升小于2;行程:4mm,定位精度:5nm;加速度:60m/s,持续推力:200N以上,从以上指标可以看出,音圈电机超精密定位系统正向高精度、高加速度和长行程方向发展、高加速度和长行程方向发展。
其次,功率放大器作为音圈电机的执行机构,其作用将控制器的电压指令信号进行放大,从而驱动音圈电机运动,为了实现音圈电机高动态高精度定位运动控制,其功率放大器应同时具有高功率、高精度和高宽带等特点,光刻机中音圈电机功率放大器具体指标,功率:750W;电流纹波:小于1mA;电流峰值:10A;电流环宽度:大于4kHz 。
再次,运动控制策略是控制器的核心技术,通常在超精密定位运动控制系统中,提高扰动抑制能力、定位精度、响应速度和自适应能力一直是超精密定位运动控制策略的目标和难点。想了解更多音圈电机资讯,欢迎来电咨询:400-007-7724
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